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半导体和LCD用瑞泽高纯氨气干燥装置
双式结构,一组工作, 另一组再生备用,而且工作和再生都自动进行,故能连续供气,一台能顶单式的两台使用。
本装置双系统结构,一组工作,另一组再生备用,且工作和再生都自动进行,故能够长期连续供气;当杂质吸附饱和后,可通过生恢复活性,故寿命长。
工艺要求:
液氨进入氨气干燥装置后杂质含量应控制为:
氨气露点≤-60℃ 流量1~500Nm³/h 尘埃颗粒<0.1μm
含油量<0.1ppm
工作压力0~0.8 MPa 本装置压降<0.05MPa
本装置应用领域:化工、冶金工业、还原工艺等。
售后
为了解除用户选用我公司产品的后顾之忧,我们一贯奉行如下的满意标准。
1. 如果产品本身存在任何质量问题,我公司负责包修,包换,包退;
2. 如果产品在运输途中损坏,我公司负责包修,包换,包退;
3. 在保修期内的使用损坏,我公司负责包修,包换,包退;
4. 产品的免费保修期为一年;
5. 我公司终身有偿维修,只收取相关维修材料费用及差旅费用。
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