高纯碲化镉厂家碲化镉粉末靶材

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成都阿尔法金属材料有限公司

成都阿尔法金属材料有限公司成立于2014年，主要生产，研发，销售各种高纯金属材料，半导体化合物，真空镀膜材料，高纯高致密磁控溅射靶材，各种合金产品。公司以诚信为本，质量{dy}为经营理念。以市场为先导，不断创新，研发各种新型材料，满足客户需求。公司位于成都市锦江工业园区，距双流国际机场25公里。公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物lq象沉积）装置，移动式加热装置等多种高纯金属和化合物生产研发设备；提纯工艺包括：真空蒸馏；精馏；区域熔炼；电解；化学气象沉积；物lq象沉积；热扩散；单晶提拉法等。材料种类包括：光电材料，热电材料，相变材料，镀膜材料等。纯度从99.99%-99.99999%,材料广泛应用于光伏，光电，电子行业，镀膜，医药行业，军工，科研等领域。产品范围包括特种陶瓷，单质金属，合金，半导体化合物及各种复杂合成的新材料及制品（纯度从低至高，高至99.99999%）。尤其在磁控溅射靶材,真空镀膜材料,高纯化合物半导体材料，蒸馏稀土金属,稀土合金，稀土氟化物，特种合金具有极大的优势。自有设备：真空热压炉，真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，定向凝固，区域熔炼炉，多温区加热炉，单晶炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、加工设备。

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高纯碲化镉
技术对接：THM 移动式加热合成工艺（优越于CVD化学气相沉积工艺）
检验：ICP-MS；激光粒度分析仪，扫描电镜。
服务：提供实用的防护措施，提供材料应用解决方案。
（特别是CSS，VTD升华工艺制备碲化镉薄膜）

1，物理性质：
分子量：240.01
禁带宽度：1.44 eV
折射率：2.57
密度：5.85 g/cm3
熔点：1092℃
沸点：1130℃
2，规格：
碲化镉：CdTe-05纯度99.999%以上，银，铝，砷，铋，铜，铁，镁，镍，铅，硒，硅，锌杂质总含量小于10ppm；
碲化镉：CdTe-06纯度99.9999%以上，银，铝，砷，铋，铜，铁，镁，镍，铅，硒，硅杂质总含量小于1ppm.
3，物理性状：黑色块或粉末。
4，用途：
用于制作红外调制器，HgxCd1-xTe衬底，红外窗场致发光器件，光电池，红外探测，X射线探测，核放射性探测器，太阳能电池，接近可见光区的发光器件。

5，包装：涤纶薄膜包装后塑料薄膜真空封装或聚乙烯瓶封装。

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