halar化工设备防腐

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郑州天一萃取科技有限公司主要从事:新型离心萃取机，萃取槽，萃取塔，防腐喷涂和搅拌设备。目前公司的主要产品系列：CWL-N型{gx}节能离心萃取机、CWL-M型{gx}节能离心机、萃取槽、{gx}萃取塔、halar(F30)防腐喷涂、混合设备以及各设备相关部件的研发和生产。公司自身实力雄厚，{zy1}的品质定位和完善的售后服务体系，已在国内离心机行业中sqyz。

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Halar ECTFE (poly(chlorotrifluoethylene-ethylene))是乙烯、三氟氯乙烯（CTFE）的交替共聚物。Halar ECTFE是半结晶和可熔融加工的含氟聚合物。
Halar具有出色的耐化学性能和优异的阻隔性能。工业上常用的化学试剂几乎都不能对Halar产生rh影响。Halar能够抵抗的化学品包括：强无机酸和有机酸、强碱、金属刻蚀剂、液氧、除热胺类（如苯胺、二甲胺）以外的所有有机溶剂。此外，和其它含氟聚合物一样，Halar会被金属钠和钾破坏。然而，Halar对氢氧化钠和氢氧化钾具有很强的抵抗作用。当然，抵抗作用的强弱会受到暴露时间的长短和温度高低的影响。

Halar和其它含氟聚合物一样会被某些卤化溶剂轻微塑化，但这并不影响它的使用。一旦停止它与卤化溶剂的接触，进行干燥，机械性能够恢复，这说明Halar没有受到化学破坏。 Halar能够抵抗syhed和一甲肼。Halar还有以下用途：使用浓氢氧化钠溶液的氯气和二氧化氯气体洗涤器；使用铬酸混合液的金属酸浸槽和电镀槽；暴露在硫酸-过氧化氢混合液中的半导体工作台；浓酸的存贮装置；氯酸钠的生产装置。

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